[XF 新聞] 中國自行研發光刻機 「曼哈頓計劃」突破 EUV 光刻技術製造原型機

近日,中國在芯片製造領域的一項重大突破,成功研發出 EUV 光刻機的原型機。這項技術被認為是製造高端芯片的關鍵 […]
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